GB/T 31058-2014 in English

《GB/T 31058-2014电子工业用气体 四氟化硅》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，主管部门为国家标准化管理委员会。
本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。
本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管 P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。
分子式:SiF4。
相对分子质量:104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。

Scope

This standard specifies the technical requirements, test methods, signs, packaging, transportation and storage of silicon tetrafluoride. This standard applies to silicon tetrafluoride prepared by fluorite sulfuric acid method, thermal decomposition method of hexafluorosilicate, and direct fluorination of elemental silicon. It is mainly used as a raw material for plasma etching, P-type doping of light-emitting diodes, ion implantation process, epitaxial deposition and diffusion of silicon source and high-purity quartz glass for optical fiber in the electronic industry, and is also an important raw material for polysilicon production. Molecular formula: SiF₄. Relative molecular mass: 104.0786128 (according to the international atomic relative mass in 2009).